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14nm光刻机通过多次曝光、EUV精细化处理、自底向上的构造技术、以及设计创新等多重技术相结合,实现了7nm和5nm芯片的制造。多次曝光 尤其关键,它可以使得原有的光刻机达到实际分辨率以下的精细图案制作。通过这种技术,使得更小尺寸的晶......
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